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太阳能电池为防止为表面的反射，在硅片表面制备折射率介于半导体和空气折射率之间的透明薄膜层。这个薄膜层称为减反射膜.
设半导体、减反射膜、空气的折射率分别为n2、n1、n0，减反射膜厚度为d1，则反射率R为
r2=(n1 - n2)/(n1 + n2)
r1=(n0 - n1)/(n0 + n1)
θ=2πn1d1/λ
λ－波长
显然，减反射膜的厚度d1为1/4波长时，R为最小。即
时
(λ＝λ'） (2.43)
一般在太阳光谱的峰值波长处，使得R变为最小，以此来决定d1的值。
以硅电池为例，因为在可见光至红外光范围内，硅的折射率为n2 = 3.4~4.0，使式（2.43）为零，则n1的值（ ， n0＝1）为1.8£ n1£2.0。设l'=4800埃，则600埃£d1£667埃，满足这些条件的材料一般可采用氮化硅.
目前的膜厚的行业指标一般在70-90nm,折射率要求在1.9-2.1.
