产品介绍:

硅片缺陷观测仪(HS-WDI)，于对硅片的缺陷进行观察，效果非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等。

实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果；



硅片缺陷观测仪-产品特点

■ 适用于对硅片的缺陷观察效果，非常明显，包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等；
■ 使硅片缺陷观察工作简单化，准确化，同时极大程度降低此项工作强度；
■ 实时对图像进行分析、测量和统计，提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备，能更好的观测和保存研究结果；
■ 使用 1/2"CMOS 感光芯片，具有体积小，技术先进，像素较高， 成像清晰 、线条细腻、色彩丰富；
■ 传输接口为 USB2.0 高速接口， 软件模块化设计 ；
■ 有效分辨率为 200 万像素；
■ 所配软件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系统。



硅片缺陷观测仪-实际观察效果


硅片放大效果100倍

硅片放大效果200倍

硅片放大效果400倍



硅片缺陷观测仪-推荐工作条件

■ 温度：23±2℃
■ 湿度：60%~70%
■ 无强磁场、不与高频设备邻近



典型用户

浙江昱辉、江西塞维ＬＤＫ、常州天合等