产品介绍:
硅片缺陷观测仪(HS-WDI),于对硅片的缺陷进行观察,效果非常明显,包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等。
实时对图像进行分析、测量和统计,提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备,能更好的观测和保存研究结果。

产品特点:
适用于对硅片的缺陷观察效果,非常明显,包括肉眼无法观测的位错、层错、划痕、崩边等;
使硅片缺陷观察工作简单化,准确化,同时极大程度降低此项工作强度;
实时对图像进行分析、测量和统计,提高传统光学仪器的使用内涵。配合投影仪和计算机等显示、存储设备,能更好的观测和保存研究结果;
使用 1/2"CMOS 感光芯片,具有体积小,技术先进,像素较高, 成像清晰 、线条细腻、色彩丰富;
传输接口为 USB2.0 高速接口, 软件模块化设计
有效分辨率为 200 万像素;
所配软件能兼容 windows 2000 和 windows XP 操作系统。

实际观察效果:



硅片放大效果100倍

硅片放大效果200倍


硅片放大效果400倍

推荐工作条件:
温度:23±2℃
湿度:60%~70%
无强磁场、不与高频设备邻近

典型用户:
浙江昱辉、江西塞维LDK、常州天合等

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