晶片表面有油污,很难以检测到,即便用KLA也难以判断,这主要是有检测原理决定的。有污染的晶片若被应用的外延,就会严重影响到LED的品质,使成品率下降。所以,如果要排除污染,就必须有一个专业的设备进行探测与判断。
平整度是晶片很重要的参数,直接决定了片子合格与否,检测平整度的方法很多,但目前看来国际还是依托于SEMI标准。参数的定义,检测的精度都是需要认真考虑的。
腐蚀工艺直接决定了检测位错的结果,关键的一点可能会让您少走很多的弯路,敬请关注。
光学晶体等级一般分六级,如何进行评估,怎么评估?这不光需要专业的检测设备,还有就是一线检测经验。
碳化硅工艺流程及检测方案
工艺流程及涉及的检测设备