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产品介绍:
    我公司的经销的美国进口硅材料氧碳含量测试仪器,所测硅料硅棒硅片氧、碳含量自动、快速、准确,可靠性高,稳定性好,一致性佳,ASTM 线性度对 0.0 % T 的偏离小于 0.07 % T,是全球公认标准的氧碳含量测试仪器。同时功能强大,应用深度广,还可以进行电池片及半导体进行膜厚分析,BPSG分析,PSG分析,FSG分析,SiN/SiON分析。

为什么需要测试氧碳含量?
    氧碳含量指标直接关系到电池片的效率和碎片率,所以成为很多电池片厂商采购硅棒硅片时的重要标准。硅中氧含量越高,则电池片的转换效率就越低;碳含量越高,则应力越大,越容易碎片,计算方法如下:

 


怎么测量氧碳含量?
    对于硅棒,一般头尾部切出两片(掰成小方片)进行检测。对于硅片,一般进行抽测。对于氧碳含量测试仪,样品仓及相关地方都应安放干燥袋,以保证干燥度。样品仓在检测过程中需要密闭处理,以保证真空度受空气氧碳影响小。

产品特点:
硅中氧碳含量测试分析系统是高端研究型硅料杂质含量仪器,该仪器建立在一个共同的光学和电子平台上,达到仪器性能和应用技术的最高水准。
硅中氧碳含量测试分析系统为完整的数据采集、处理过程提供了功能强大的、与Windows兼容的基础系统软件。
基础系统软件包含了最广泛的、友好的在线帮助系统,该系统不仅指导如何操作软件,还提供了从基本原理、光谱解析到最优实验设计等一系列专家帮助功能。
杂质分析软件功能强大,不仅可以做到硅料硅棒硅片氧、碳含量自动、快速、准确的测量,还可以进行电池片及半导体膜厚分析,BPSG分析,PSG分析,FSG分析,SiN/SiON分析
测量结果稳定性好,一致性佳。热稳定性极高的整体块状反射镜消除了传统单片反射镜螺丝固定带来的镜片容易变形、螺丝容易松动、需要人工调整光路的弊端,具有极高的重复性,甚至是仪器间的一致性。精密的机械加工确保每次扫描的高度再现,彻底消除仪器给实验结果带来偏差。 
制样简便、智能操作。
功能强大,还可以进行膜厚分析,BPSG分析,PSG分析,FSG分析,SiN/SiON分析。
自动识别、自动性能测试、自动参数设定、永久精确定位校准等特色提高了应用实验的重复性,完全消除人为误差。 
智能光学台的所有元件均采用智能化预准直对针定位,“即插即用”设计,分束器、检测器及智能附件一旦插入系统,智能系统立刻自动识别,自动更新参数,自动优化无需调整。完全抛弃了老式螺钉螺母,出厂前激光定位的方法,克服了由螺丝弹簧控制镜面角度的不稳定性。 
智能湿度探测减轻了操作人员对仪器维护的工作量,将自动提醒更换干燥剂,解决红外使用过程中最大的隐患。 
在线智能诊断:连续检测每一个光学元件和电子元件的参数,随时可以检测并预知光谱仪的故障,并提出解决方案,增强用户的自我维护能力。
光学台采用美国宇航专利密封胶条的整体密封干燥设计,减少了光路中的密封窗片,提高了光的传输效率,且防潮效果极佳。 
光学台采用整体铸模形式,加上高精度的“对针定位”固定光学元件,达到了超高精度的重复性,大大增加了仪器的稳定性。彻底解决了传统光学结构不易维护的问题,未入门用户即可自行安装、更换光学元件。 
现代最新的计算机技术同步的最新的USB 2.0 通讯接口,提高了数据传输速率。 
专利的无缝不锈钢设计的液氮冷却检测器,液氮保持时间长达18小时,属业内第一。 
最新ETC EverGloTM光源,红外光源能量稳定输出,确保光源整个寿命中均可保证性能一致,从而得到稳定的高质量红外图谱;
可通过“Turbo”模式获得超出常规能量25%高能量输出,用以满足特殊测试要求。 
电磁悬浮驱动专利干涉仪,成为最新一代高级研究应用所青睐的干涉仪,分辨率最高可达0.09cm-1。 
数字化连续动态调整(D.S.P),速度达每秒130,000次, 保证瞬时与长时间检测的超高稳定性,更好的光谱峰形。
品种齐全的各类检测器,适用于紫外至远红外的任何光谱范围或实验配置要求,并具有最佳的性能。
所有的检测器均“即插即用” (Plug and Play),易于更换与使用。
在样品仓盖开启时,独特的智能吹扫系统将自动进行检测,增加光学台中吹扫气体的流量,在连续测样的过程中以最短的吹扫时间恢复到开仓前的状态,以确保尽可能迅速而高效地收集数据。 
精密铸造的光学台底座配以最少数量的反射镜以及最短光程的设计。
金刚石加工切削整体合金反射镜,光路传输效率更高于一般金属镀层技术的反射镜,保证最大光学效能输出。
高性能电子系统:最新的24位A/D转换器,500KHz的A/D转换速度,真正做到实时采集光谱数据,保证数据的真实性与可靠性。

推荐工作条件:
室内环境温度15~30℃;相对湿度(全天候)不超过60%
室内无强磁场干扰;无妨碍仪器正常工作的震动
室内环境清洁、干燥、没有灰尘、无腐蚀性气体
氧碳测试仪是精密光学仪器,为防止酸、碱及其它腐蚀性气体、烟雾侵蚀仪器,必须和化学实验室分开;仪器光学系统对湿度、温度要求很高,实验室应安装空调及去湿设备

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