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               蓝宝石晶片一般是一面抛光面,一面是研磨面,抛光面是后续一面MOVCD生长面,对粗糙度的大小将直接影响到外延片的质量,其粗糙度要求是<=0.2nm,研磨面虽然不是MOVCD生长面,但其也对后续工艺产生影响,其粗糙度的大小一般要求在100um以下.           
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